專為40℃以上高溫環(huán)境中測量-50℃以下露點(diǎn)而特別設(shè)計(jì),此模式的特點(diǎn)是在消露的過程中采用軟件技術(shù)控制鏡面霜層,正因?yàn)槿绱?,更低的露點(diǎn)反而可獲得更快的測量(測量時(shí)間≤5min),有效解決高溫環(huán)境中低露點(diǎn)無法測量的問題。
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